無電解ニッケルめっきRoHS対応

Electroless Ni Plating

寸法公差の厳しい精密部品に最適

電気めっきでは実現が難しい複雑形状の部品に均一な皮膜を形成することができます。

高硬度、優れた耐摩耗性、高耐食性を実現する機能めっきとしてさまざまな産業分野で活用されています。

フレキシブルな多目的ラインを稼動させておりますので、小物から大物まで、また単品ものから量産品まで対応することができます。

自動機ラインには不向きな形状、厚膜、薄膜には手動ラインで対応します。

高電解ニッケルめっき

主な仕様、応用例
皮膜硬度:
析出時は500~550Hv。400°C熱処理後は800~1000Hv
対応素材:
鉄、アルミ系合金
対象部品例:
OA機器部品、電子部品、自動車部品、精密機械部品、半導体部品、通信機部品、化学プラント容器・部品など

無電解ニッケルめっき皮膜の秘密

電気を使用せず、触媒反応で還元析出させるめっきなので、凸部に電流が集中して膜厚が不均一になる電気めっきと異なり、凸部にも凹部にも均一なニッケル皮膜が形成されるのです。

皮膜にはP(リン)を微量含有しています。8~10%程度です。

析出時の皮膜は非晶質、熱処理することで結晶形となり析出硬化現象を起こすのです。

無電解ニッケルめっき皮膜

無電解ニッケル-リン合金めっきの物性
化学組織 Ni:90~92% P:8~10%
組織 析出状態でほぼ非晶質、熱処理すると結晶形となり析出硬化現象を示す。
比重 析出状態:7.9 400°C以上で加熱:7.8
溶融 温度 890°C
電気抵抗 60µΩ/cm/cm2、400°C以上で加熱したものは1/3以下に低下。
熱膨張係数 13×10-6cm/cm・°C
熱伝導度 0.0105~0.0135cal/cm・sec・°C
磨耗抵抗 電気めっきよりすぐれている。650°Cで熱処理したものは、使用例によっては硬質クロムよりすぐれている場合もある。
磁性 析出状態でほぼ非磁性。熱処理すると磁性を生ずる。
均一性 形状如何によらず、つきまわりは完全。精度±10%以内。
密着性 きわめてすぐれている。
耐熱性 高温酸化による表面スケールの防止に役立つ。
耐食性 純ニッケルと同等又はすぐれている。
硬度 析出状態:500~550Hv。400°Cで熱処理:800~1,000Hv

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